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固態(tài)電解質(zhì)高能球磨建議對(duì)照表

電解質(zhì)類型	推薦目標(biāo)粒徑	推薦球磨機(jī)	典型球料比（BPR）	推薦球徑組合（mm）	氣氛環(huán)境	注意事項(xiàng)
硫化物（如LGPS、Li₆PS₅CI）	20-80nm	PULVERIZER 80	10:1~20:1	2/5/10（混合）	惰性氣氛（Ar）	要求非常細(xì)以提高離子導(dǎo)率，注意潮氣/氧敏感、避免熱升高導(dǎo)致相變或失硫
鹵化物（如Li₃InCI₆）	30-150nm	PULVERIZER 80 or HSVM Ball Mill	8:1~15:1	2/5（混合）	干燥惰性氣氛（Ar）	細(xì)粉可提高界面性，但要防止吸濕和團(tuán)聚
氧化物（如LLZO、LAGP、LATP）	100-500nm	PULVERIZER 80 or PULVERIZER 500	5:1~10:1	5/10/15（偏大）	常溫空氣或惰性（視材料）	過(guò)細(xì)會(huì)影響燒結(jié)行為和晶粒生長(zhǎng)，建議不要追求過(guò)細(xì)
硫酸鹽/其他復(fù)雜氧化物	50-300nm	PULVERIZER 80	5:1~12:1	2/5/10	視耐空氣性而定	根據(jù)后續(xù)燒結(jié)/熱處理調(diào)整粒徑目標(biāo)

實(shí)用操作建議

1. 氣氛與水分控制：硫化物和某些鹵化物對(duì)水/氧非常敏感。球磨、裝料和取樣應(yīng)在手套箱/惰性氣氛下進(jìn)行，球罐預(yù)干燥。

2. 防止團(tuán)聚/冷焊：對(duì)易冷焊的金屬或硫化物可加入少量助磨劑（例如少量異丙醇做濕法）或短時(shí)間多批次球磨，避免長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)高溫。濕法后必須徹底干燥并在惰性氣氛下處理。

3. 監(jiān)測(cè)粒徑與相：定期取樣做粒度測(cè)試（激光粒度或DLS/SEM），并用XRD觀察結(jié)晶性/相變。粒徑達(dá)到目標(biāo)后立即停止球磨，避免過(guò)磨破壞相。

4. 球材質(zhì)選擇：避免雜質(zhì)污染——常用材質(zhì)：氧化鋯（ZrO?）/球（視成本與污染容忍度），不推薦鐵或普通鋼用于要求高純度的體系。

5. 典型轉(zhuǎn)速與時(shí)間（參考值，須按設(shè)備與樣品調(diào)整）：

? 高能行星球磨：轉(zhuǎn)速300–1200rpm，分次球磨（例如每批10–30min，間隔冷卻），總有效時(shí)間從幾十分鐘到數(shù)小時(shí)不等以達(dá)到nm級(jí)。

? 低速/振動(dòng)球磨：用于較粗粒或避免過(guò)熱。

6. 球徑搭配：混合小球+中球（如2mm+5mm）可以兼顧細(xì)碎效率與研磨均勻性。

7. BPR（球/料比）：提高 BPR 可加速細(xì)化，但會(huì)加劇磨損與升溫；一般先用10:1試驗(yàn)，再根據(jù)結(jié)果調(diào)整到15-20:1（若需更細(xì)）。

8. 后處理：球磨后若用于燒結(jié)/燒結(jié)合成，粒徑分布均勻、低團(tuán)聚能提高致密化；氧化物體系通常需要更高溫?zé)Y(jié)以獲得致密氧化物骨架。

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